Aufdampf und Sputtertechnik ( PVD-Labor )
Im PVD-Labor ( physical vapour deposition ) werden Dünnschichtsysteme mit folgenden physikalischen Depositionsverfahren abgeschieden:
www.helmholtz-berlin.deEvaporation and sputter technique ( PVD-Laboratory )
In the PVD ( physical vapour deposition ) laboratory thin film systems are deposited with the following techniques:
www.helmholtz-berlin.deDie anschließende Kondensation auf den zu behandelnden Substraten bewirkt die Polymerisation und die Bildung einer geschlossenen Schicht.
Die Polymerisation ist somit eine spezielle Form der sogenannten CVD Prozesse( chemical vapor deposition bzw. chemische Gasphasenabscheidung ).
Anwendungen plasmapolymerer Beschichtungen:
www.plasmaparylene.deThe following condensation on the treated substrates results in polymerization and the creation of a closed layer.
This Polymerization is a special form of the so called CVD processes ( chemical vapor deposition ).
Applications of plasma polymer coatings:
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Abb. 2 Skizze einer physikalischen Gasabscheidung (PVD - physical vapour deposition) für die gleichzeitige Verdampfung von verschiedenen Elementen.
In der Regel werden nicht-kristalline Substrate verwendet, die ein polykristallines Schichtwachstum hervorrufen.
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Fig.2 Sketch of a physical vapour deposition system for the simultaneous evaporation of different elements.
Typically non-crystalline substrates are used which lead to polycrystalline film growth.
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