Scatterometry is an indirect method of measurement for the determination of surface profiles in the micrometer and nanometer range which occur e.g. in photolithographic masks.
Within the scope of the BMBF joint project ABBILD, a mathematical method was developed in cooperation with the Weierstraß Institute of Berlin and two experimental PTB groups the basic suitability of EUV scatterometry for the determination of profiles was demonstrated.
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www.ptb.deScatterometrie ist eine indirekte Messmethode zur Bestimmung von Oberflächenprofilen im Mikro- und Nanometerbereich, wie sie z. B. auf Fotolithographiemasken auftreten.
Im Rahmen des BMBF-Verbundprojektes ABBILD, wurde in Zusammenarbeit mit dem Weierstraß-Institut Berlin und zwei experimentellen PTB-Arbeitsgruppen ein mathematisches Auswerteverfahren entwickelt und die grundsätzliche Eignung der EUV-Scatterometrie zur Profilbestimmung nachgewiesen.
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